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紫外激光清洗機(jī)
針對微米、亞微米顆粒的高精密清洗設(shè)備產(chǎn)品特點:1. 能滿足其他大型清洗設(shè)備所不能達(dá)到的清洗需求。2. 操作簡單  通電即可運行,便捷易上手,可用于長時間作業(yè)。產(chǎn)品應(yīng)用領(lǐng)域:1. 半
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產(chǎn)品參數(shù)

針對微米、亞微米顆粒的高精密清洗設(shè)備

產(chǎn)品特點:

1. 能滿足其他大型清洗設(shè)備所不能達(dá)到的清洗需求。

2. 操作簡單  通電即可運行,便捷易上手,可用于長時間作業(yè)。

產(chǎn)品應(yīng)用領(lǐng)域:

1. 半導(dǎo)體材料、電子電路、芯片制備及3C硬件產(chǎn)業(yè)。

2. 芯片、電極、磁頭、磁盤以及各種微電子產(chǎn)品.

產(chǎn)品優(yōu)勢:

全封閉超凈間設(shè)計

長焦深設(shè)計

可定制平臺

基本參數(shù):

設(shè)備型號/Model

RL-UQ5-A

RL-UQ10-A

RL-UQ20-A

輸出功率/Average output power

5W

10W

15W

功率調(diào)節(jié)范圍/Output tunability

10-100%(連續(xù)可調(diào))

功率穩(wěn)定性/Stability

<3%

冷卻方式/Cooling

水冷

電力要求/Power supply

單相220V±10%  50-60Hz

環(huán)境濕度/Operating humility

20%-80%

場鏡焦距/Focal length

50mm-500mm(可選)

掃描路徑/Scanning path

5種任選

有效焦深/Rayleith length

20mm(可定制)



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